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来源 |每日经济新闻欢迎下载OFweek APP查看更多新闻
南大光电于10月23日与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》。
南大光电公告称，按照协议，南大光电拟在宁波经济技术开发区投资开发“高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料”以及配套原材料和“底部抗反射层等高纯配套材料”，形成规模化生产能力，建立配套完整的国产光刻胶产业链。
该项目计划总投资6亿元，预计总用地50亩。项目完全达产后，预计实现约10亿元的年销售额。
资料显示，南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，该公司已拥有MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料等业务板块。
2017年，南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”（以下简称193nm光刻胶项目）。
南大光电2019年半年报表示，公司组建了包括高级光刻胶专业人才的独立研发团队，建成1500平方米的研发中心和百升级光刻胶中试生产线。目前，南大光电“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”的研发工作已经完成，正在等待验收。
同时设立了光刻胶事业部，并成立了全资子公司宁波南大光电材料，推进“193nm光刻胶项目”的落地实施，预计将在2019年底在宁波建成一条光刻胶生产线。
对于此番投建的项目，南大光电特别在公告中强调，项目与公司正在推进的“193nm光刻胶项目”系两个独立的项目。公司称，投建新项目是为加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。
